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Vakuum-Reinigungsofen
Der Vakuumreinigungsofen kann zur kontinuierlichen Hochtemperatur-Graphitisierungsreinigung von Graphitpulver verwendet werden, und die Kombination aus Hochtemperaturverfahren und chemischem Verfahren kann realisiert werden.Geeignet für Fahrzeuge mit neuer Energie, Halbleiter, neue Materialien und andere Bereiche.
VERWENDET:
Es eignet sich für die Vakuumatmosphärenbehandlung von Batterieanodenmaterialien, elektronischer Keramik, Glas, Kristall, Pulvermetallurgie, Nanomaterialien, Metallteilen, elektronischen Bauteilen, Graphen, neuen Materialien und Pulvermaterialien sowie zum Sintern von Materialien in einer Umgebung mit inerter Atmosphäre.
Merkmale:
Es kann zur kontinuierlichen Hochtemperatur-Graphitisierungsreinigung von Graphitpulver verwendet werden und die Kombination aus Hochtemperaturverfahren und chemischem Verfahren kann realisiert werden.
Es kann eine kontinuierliche Zuführung und Entladung bei hohen Temperaturen realisieren, den Energieverbrauch senken und den Produktionszyklus verkürzen;
Bei Verwendung von Widerstands- oder Induktionserwärmung kann die Temperatur mehr als 2850℃ erreichen;
Die Kombination aus Hochtemperaturmethode und chemischer Methode kann die Anforderungen einer hochreinen Behandlung erfüllen.
Durch den Einsatz eines effizienten Filtersystems kann der Staub und das korrosive Gas, das im Reinigungsprozess entsteht, effektiv aufgefangen werden.
Es kann eine kontinuierliche Zuführung und Entladung bei hohen Temperaturen ermöglichen, den Energieverbrauch senken und den Produktionszyklus verkürzen.
Haupttechnische Parameter
Modell | GJC-DCL-4 | GJC-DCL-10 | GJC-DCL-15 |
Ausstoß (kg/h) | 50-90 | 100-140 | 150-200 |
Maximale Temperatur (℃) | 2850 | ||
Heizmethode | Induktionsheizung | ||
Kontroll-Methode | · Manueller oder automatischer Betrieb · | ||
Ladekapazität (L) | 10-40 | 40-120 | 120-250 |
· Temperaturunterschied in der Zone konstanter Temperatur (℃) | ±3,5 | ±5 | ±8 |
Arbeitsatmosphäre im Ofen | · Vakuum- oder Inertgasschutz (leichter Überdruck) · | ||
Vakuum-Reinigungsofen
Der Vakuumreinigungsofen kann zur kontinuierlichen Hochtemperatur-Graphitisierungsreinigung von Graphitpulver verwendet werden, und die Kombination aus Hochtemperaturverfahren und chemischem Verfahren kann realisiert werden.Geeignet für Fahrzeuge mit neuer Energie, Halbleiter, neue Materialien und andere Bereiche.
VERWENDET:
Es eignet sich für die Vakuumatmosphärenbehandlung von Batterieanodenmaterialien, elektronischer Keramik, Glas, Kristall, Pulvermetallurgie, Nanomaterialien, Metallteilen, elektronischen Bauteilen, Graphen, neuen Materialien und Pulvermaterialien sowie zum Sintern von Materialien in einer Umgebung mit inerter Atmosphäre.
Merkmale:
Es kann zur kontinuierlichen Hochtemperatur-Graphitisierungsreinigung von Graphitpulver verwendet werden und die Kombination aus Hochtemperaturverfahren und chemischem Verfahren kann realisiert werden.
Es kann eine kontinuierliche Zuführung und Entladung bei hohen Temperaturen realisieren, den Energieverbrauch senken und den Produktionszyklus verkürzen;
Bei Verwendung von Widerstands- oder Induktionserwärmung kann die Temperatur mehr als 2850℃ erreichen;
Die Kombination aus Hochtemperaturmethode und chemischer Methode kann die Anforderungen einer hochreinen Behandlung erfüllen.
Durch den Einsatz eines effizienten Filtersystems kann der Staub und das korrosive Gas, das im Reinigungsprozess entsteht, effektiv aufgefangen werden.
Es kann eine kontinuierliche Zuführung und Entladung bei hohen Temperaturen ermöglichen, den Energieverbrauch senken und den Produktionszyklus verkürzen.
Haupttechnische Parameter
Modell | GJC-DCL-4 | GJC-DCL-10 | GJC-DCL-15 |
Ausstoß (kg/h) | 50-90 | 100-140 | 150-200 |
Maximale Temperatur (℃) | 2850 | ||
Heizmethode | Induktionsheizung | ||
Kontroll-Methode | · Manueller oder automatischer Betrieb · | ||
Ladekapazität (L) | 10-40 | 40-120 | 120-250 |
· Temperaturunterschied in der Zone konstanter Temperatur (℃) | ±3,5 | ±5 | ±8 |
Arbeitsatmosphäre im Ofen | · Vakuum- oder Inertgasschutz (leichter Überdruck) · | ||
