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Graphitspaltofen

Der Graphitspaltofen wurde speziell für Labortest- und Entwicklungsumgebungen entwickelt und zeichnet sich durch eine kompakte Struktur, einfache Bedienung, einen großen Temperaturbereich usw. aus.
Verfügbarkeitsstatus:
Menge:

石墨裂解炉+水印



Der zylindrische Heizbereich besteht aus einem Tiegel, einem Heizelement und einer Ofenauskleidung, und der gesamte Heizbereich ist in der Hülle mit einer Wasserkühlkammer installiert.Seine kompakte Bauweise eignet sich besonders für Laborexperimente an kleinen Proben.


Anspruchsvolles Gerätedesign, hochwertige Materialauswahl.Hochwertige Graphitheizelemente und Graphitauskleidungsmaterialien ermöglichen das Erhitzen auf Vakuumbedingungen


2200°C und bis zu 3000°C in Argonatmosphäre.Das Heizsystem besteht aus Temperaturregler, Leistungsregler, Transformator, Heizelement und Thermoelement/Pyrometer.Der Bediener stellt den erforderlichen Heizvorgang über den Temperaturregler ein, und das System gibt über den Leistungsregler und den Transformator entsprechend dem Temperatureinstellungswert und dem tatsächlichen Wert den entsprechenden Strom an das Heizelement aus und erwärmt die Probe.Die tatsächliche Temperatur des Ofens wird über das Thermoelement/Pyrometer an den Temperaturregler zurückgemeldet.Das System realisiert eine automatische Heizungsregelung mit geschlossenem Regelkreis.


Das Gerät ist für die Vakuumversiegelung ausgelegt und mit einer zweistufigen selektiven Vakuumpumpe bis zu einem Vakuumgrad von 5x10-2 mbar ausgestattet.


Der Ofenkörper und der Schaltschrank der Anlage sind zur einfachen Bewegung auf einer Halterung montiert, an deren Unterseite sich eine Rolle befindet.


Für Forschungs- und Entwicklungseinrichtungen an Universitäten oder Industrieunternehmen ist der Ofen aufgrund seines geringen Platzbedarfs, der einfachen Betriebsart, des großen Heiztemperaturbereichs und der guten Temperaturgleichmäßigkeit ein sehr geeignetes, kostengünstiges Werkzeug


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