Wie wird die Reinigung im Graphitisierungsofen graphitisiert?

Der Vakuumreinigungsofen kann zur kontinuierlichen Hochtemperatur-Graphitisierungsreinigung von Graphitpulver verwendet werden und kann die Kombination aus Hochtemperaturverfahren und chemischem Verfahren realisieren.Anwendbar auf neue Energiefahrzeuge, Halbleiter, neue Materialien und andere Bereiche.

Der Vakuumgraphitisierungsofen ist ein leistungsstarker intelligenter Heizofen, der von unserem Ingenieur- und Technikpersonal eingeführt wurde, um ausländische fortschrittliche Temperaturmessung, Temperaturregelungstechnologie, Intelligenz, neue Materialtechnologie und Ofendesigntechnologie zu verdauen und zu absorbieren.Geeignet für die Hochtemperaturbehandlung von Materialien (Karbonisierung, Graphitisierung, Hochtemperaturentfettung, Entfernung von Verunreinigungen usw.) unter Vakuum oder Schutzgas.

Graphitisierungsreinigung des Graphitisierungsofens:

Graphitreinigungsverfahren werden hauptsächlich in zwei Kategorien eingeteilt: erstens Nassreinigung, einschließlich Säure-Base-Verfahren, Flotationsverfahren, Flusssäureverfahren;Zweitens Feuerreinigung, einschließlich Hochtemperaturmethode und Chlorierungsröstmethode.

Methode der Flotation

Flotationsverfahren: Anreicherung und Reinigung von Graphit mit Schwimmfähigkeit eignet sich hauptsächlich für natürlichen Flockengraphit mit guter Schwimmfähigkeit.Der Konzentratgehalt des durch Flotation gereinigten Graphiterzes beträgt normalerweise etwa 90%, manchmal sogar bis zu 94-95%.

Säure-Base-Methode

Das Säure-Base-Verfahren wird auch Alkali-Säure-Verfahren genannt, auch bekannt als Natrium-Sauerstoff-Oxidationsverfahren oder Lösungs-Alkali-Verfahren.Das Reinigungsverfahren umfasst ein Alkalilösungsverfahren und ein Säurehydrolyseverfahren

Flusssäureverfahren: Die Verwendung von Flusssäure kann mit fast allen Verunreinigungen in Graphit reagieren, wasserlösliche Verbindungen und flüchtige Stoffe erzeugen und dann mit Wasser waschen, um Verunreinigungen zu entfernen, um den Zweck der Reinigung zu erreichen

Das Prinzip der Hochtemperaturreinigung besteht darin, dass der Siedepunkt von Verunreinigungen in Graphit niedriger ist als der von Graphit.Wenn die Temperatur auf den Siedepunkt der Verunreinigungen ansteigt, verdampfen die Verunreinigungen, um den Zweck der Entfernung der Verunreinigungen zu erreichen.Der 3200-Grad-Ultrahochtemperatur-Graphitisierungsofen ist eine Art Ultrahochtemperatur-Produktionsanlage mit inländischer führender Technologie, die von unseren Ingenieuren und technischen Mitarbeitern unter starker Unterstützung inländischer Forschungsinstitute und Universitäten entwickelt wurde.Die maximale Betriebstemperatur des Geräts beträgt bis zu 3000℃.