Klassifizierung und Verwendung von Vakuumatmosphären-Sinteröfen?

Je nach Verwendungszweck und Prozessanforderungen können Vakuum-Atmosphären-Sinteröfen in die folgenden Kategorien eingeteilt werden:

1. Hochtemperatur-Sinterofen: Wird für Sinterprozesse bei hohen Temperaturen verwendet, z. B. zum Sintern von Metall, Keramik, Pulvermetallurgie und anderen Materialien.Die Vakuumumgebung kann die Oxidation und Verdampfung von Materialien bei hohen Temperaturen verhindern und die Sinterqualität und Materialeigenschaften verbessern.

2. Niedertemperatur-Sinterofen: Wird für Sinterprozesse bei niedrigen Temperaturen verwendet, wie z. B. das Sintern von elektronischen Bauteilen, optischen Materialien, Filmmaterialien usw. Die Vakuumumgebung kann die Verschmutzung durch Verunreinigungen und Oxidationsreaktionen reduzieren und die Reinheit und Leistung verbessern des Materials.

3. Hochdruck-Sinterofen: Wird für Sinterprozesse unter hohem Druck verwendet, z. B. für superharte Materialien, Hochdrucksynthese usw. Die Vakuumumgebung kann eine stabile Atmosphäre unter hohem Druck bereitstellen, um die Stabilität des Sinterprozesses und die Qualität des Sintervorgangs sicherzustellen Material.

4. Anaerober Sinterofen: Wird für Sinterprozesse unter anaeroben Bedingungen verwendet, z. B. für Permanentmagnetmaterialien aus seltenen Erden, supraleitende Hochtemperaturmaterialien usw. Die Vakuumumgebung kann die Oxidationsreaktion des Materials in Sauerstoff vermeiden und die Reinheit und Leistung des Ofens sicherstellen Material.

5. Pulvermetallurgischer Sinterofen: Wird für pulvermetallurgische Prozesse wie Metallpulver, Keramikpulver usw. verwendet. Eine Vakuumumgebung kann sauerstofffreie, schadstofffreie Sinterbedingungen bieten und die Dichte und Leistung von Materialien verbessern.

Kurz gesagt, Sinteröfen mit Vakuumatmosphäre werden häufig im Sinterprozess verschiedener Materialien eingesetzt. Durch die Bereitstellung einer stabilen Vakuumumgebung können Qualität, Reinheit und Leistung der Materialien verbessert werden, um unterschiedliche Prozessanforderungen zu erfüllen.